关于芯片光刻机，今日市场突然传来一则大消息，荷兰半导体设备制造商 ASML 阿斯麦或推出中国特供版 DUV 光刻机。
不过紧随其后，ASML 便火速回应称：一直以来都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。
ASML 否认推出
中国特供版 DUV 光刻机
此前，根据 DigiTimes 报道，ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。
消息称，ASML 正在考虑发布其深紫外光刻（DUV）工具的特殊版本，该工具将符合最新的美国出口规则，并且可以在没有许可证的情况下运送给中国客户。
如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。
据悉，这款特别版 DUV 光刻机是基于 ASML 的 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统进行改造的。
而 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统是 ASML 在 10 年前推出的一款旧型号，因此不在此次荷兰官方禁令的限制范围内。
Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统是 ASML 目前效率相对较低的光刻机型之一，它支持 NA 1.35 光学器件，分辨率可达到小于 38 纳米，这对于 7nm 级甚至更高级的节点来说已经足够了。事实上，这款机器最初于 2016 年发布，台积电曾使用它来开发其 7nm 级工艺技术。
目前大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机主要生产 14 纳米及更高工艺的芯片，而很少使用它来生产 7 纳米芯片。
报道表示，尽管 ASML 的特别版 DUV 光刻机是基于旧型号改造，但此次行动也将被视为一种规避荷兰新销售许可禁令的尝试。
不过就在传闻迅速发酵之际，ASML 针对传闻火速回应表示：一直以来 ASML 都遵守所适用的法律条例，公司并没有面向中国市场推出特别版的光刻机。
荷兰出口管制新规
6 月 30 日，荷兰政府正式颁布了有关半导体设备出口管制的新条例，其要求先进芯片制造设备的公司在出口之前须获得许可证，这些规定将于 9 月 1 日生效。
正如 3 月初宣布的那样，新的出口管制侧重于先进的芯片制造技术，包括最先进的沉积和浸没式光刻系统。
在荷兰新规出台之后，ASML 曾回应表示，根据新出口管制条例规定，ASML 需要向荷兰政府申请出口许可证才能发运最先进的浸润式 DUV 系统（即 TWINSCAN NXT：2000i 及后续推出的浸润式光刻系统）。
荷兰政府将决定是否授予或拒发出口许可证，并将向 ASML 提供许可证所附条件的细节。
ASML 在声明中重点指出，荷兰政府新颁布的出口管制条例只涉及 TWINSCAN NXT：2000i 及后续推出的浸润式光刻系统（DUV，深紫外光刻）。
而该公司的 EUV 光刻（极紫外光刻）系统在此前已经受到限制，其他系统的发运暂未受荷兰政府管控。
"ASML 将继续遵守适用的出口管制条例，其中包括荷兰、欧盟及美国的出口管制条例。"
据 ASML 财报显示，2022 年该公司共出货 345 台光刻系统，其中有 81 台浸润式 DUV 光刻机（ArFi），占比为 23%。所有产品中，42% 销往中国台湾，29% 销往韩国，14% 销往中国大陆，7% 销往美国。
