国产光刻机全产业链协同发展,A股零部件公司初具关注价值

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发布时间:2024-04-22 18:19

集微网消息,在芯片行业中,有一句不成文的格言:掌握了集成电路的上游端就能在全球占据先机。近期,美日荷联合阵营设备出口管制封锁矩阵仍在升级,半导体设备国产替代的投资逻辑仍在不断强化,日本阵营的加入进一步拔高了中国对晶圆产业自主可控的主旋律的认知,A股设备板块表现不再被下游消费电子萎靡不振的市场压制,纷纷逆势上扬。刻蚀、涂胶、CMP等设备领域过去三年均实现了较高程度的替代,涌现出中微公司、拓荆科技、芯源微等一批优秀的设备类企业。然而贵为半导体产业皇冠上的“明珠”的光刻机仍然在压制国产半导体晶圆厂先进制程的提升,而我们在相关技术上的掌握又究竟走到了哪里?

据了解,一台完整光刻机包含四大核心模组(光源模组、照明光学模组、光罩模组和晶圆模组),约10万个零部件,这些零部件的5000家供应商目前遍布全球。具体来看,紫外线通过光源模组(激光器)生成,被导入到照明模组,在此检测和控制光的能量(能量控制器、能量探测器),进而设置光的形状;穿过光罩之后,投影物镜将影像聚焦到光刻胶上;再将光罩从盒中传送到平台上,来回移动,形成扫描式,如同打印机一般;最后将晶圆放置并进行测量曝光。而主要核心部件主要分为两个部分:分别是对准系统和紫外光源。目前对准系统主要有两大难题,精密的机械工艺和对准显微镜系统。精密的机械工艺目前只有美国、德国、意大利等少数国家有这方面的专利,而对准显微镜系统其实就是镜片,在这方面我国一直处于落后的状态。

在光刻机的主要供给方面,ASML是光刻机的绝对龙头。受到技术和巨额投资资金的限制,在高端光刻机领域,ASML一家独大,其首先采用了浸没式系统提升分辨率,后续研发出EUV光刻系统,在21世纪后打败了尼康和佳能并逐步垄断高端市场。目前尼康理论上仍拥有除了EUV以外的所有类型光刻机产品,但是近年来其ArF相关的高端产品出货量日趋萎缩,当前市场份额较低;而佳能产品完全集中于特定工艺领域的i-LIne和KrF设备,出货量稳增长,但是没有任何高端工艺用设备。以ASML的光刻机为例,公司的上游供应商包括美国的Cymer、日本的Gigaphoton(光源)、德国蔡司(光学镜头)、美国科磊(电子束检测)等。

当前在国内,国产光刻机的发展借助政策优势,发展到了一定的阶段,其中最正宗的光刻机生产商是上海微电子、中科院长春光机所、华为三家公司。其中,上海微电子(SMEE)在2016年完成了90nm光刻机出货,目前最先进的设备为SSA600/20步进扫描投影光刻机,并在2017年承担“02专项”浸没光刻机关键技术预研项目并通过了验收,公司当前正推进ArFi DUV光刻机的研发;中科院长春光机所2017年承担“02专项”极紫外光刻关键技术研究通过验证。

在部分光刻机核心系统方面,国内以国科精密、华卓精科为代表的新锐力量也完成了部分项目的论证。目前光刻机曝光系统全球只有蔡司和尼康能够完成国科精密作为国家科技重大专项02专项支持的唯一高端光学技术研发单位,正在承担NA0.82、NA1.35等多种类型高端IC制造投影光刻机曝光光学系统的技术研发及产业化推进工作;华卓精科是上海微电子唯一的光刻机工件台供应商,作为世界上第二家掌握双工件台核心技术的公司,华卓精科成功推出了第一台满足65nm光刻机需求的双工件台样机,打破了ASML公司在工件台上的技术垄断。

而在光刻机产业链的投资选择上,虽然整机进展未来可期,但是部分上市光刻机零部件公司初步具备关注价值。

其中以下A股公司值得重点关注:

1、茂莱光学(688502,DUV光学透镜):公司专注于精密光学器件、光学镜头和光学系统的研发、设计、制造及销售,主要产品包括透镜、棱镜和平片(多光谱滤光片、荧光滤光片、太空反射镜等)。在半导体检测及光刻机领域,公司研发生产的半导体检测设备光学系统已成功应用于国际龙头企业KLA、Camtek的半导体检测设备中;公司研发的精密光学器件已应用于国产光刻机中,为光刻机国产化提供了重要支撑,助力我国国产光刻机的技术发展,上海微电子是公司光刻机领域最主要的客户。

2、炬光科技(688167,ASML核心供应商):公司可提供光刻机曝光系统里核心元器件——光场匀化器,供应给ASML公司。同时与国内在这一领域的研发单位有广泛合作,亦逐步向日本市场进行渗透。2022年起得益于半导体市场DUV光刻市场需求强烈,终端客户产能扩张迅速,应客户要求公司已于2022年在德国完成产能扩充,并与ASML公司也有意向进一步往光学模组等产品品类展开合作。

3、腾景科技(688195,配套高功率半导体激光器厂商):公司主要从事各类精密光学元组件、光纤器件研发、生产和销售。据2022年报披露,公司多波段合分束器已完成产品开发,成功进入半导体微电子设备厂供应链。在光纤激光领域,公司与行业主要的光纤激光器厂商建立了合作关系,主要客户包括R客户、nLIGHT等,其中nLIGHT是世界领先的高功率半导体激光器厂商,R客户为全球知名的光纤激光器企业。

4、美埃科技(688376,配套上海微电子,电子半导体洁净室设备龙头):公司为上海微电子提供的EFU(超薄型设备端自带风机过滤机组)及ULPA(超高效过滤器)等产品可提供光刻机机台内国际最高洁净等级标准(ISO 1级)洁净环境。