快科技 2 月 15 日消息，近日，光刻机巨头 ASML 首次在其荷兰总部向媒体公开展示了最新一代的 High NA EUV 光刻机。
据悉，一套 High NA EUV 光刻机的大小等同于一台双层巴士，重量更高达 150 吨，组装起来比卡车还大，需要被分装在 250 个单独的板条箱中进行运输。
装机时间预计需要 250 名工程人员、历时 6 个月才能安装完成。
根据爆料显示，High NA EUV 的售价高达 3.5 亿欧元一台，约合人民币 27 亿元，它将成为全球三大晶圆制造厂实现 2nm 以下先进制程大规模量产的必备武器。
2023 年 12 月，Intel 已率先拿下了全球首台 High NA EUV 光刻机，台积电和三星订购 High NA EUV 预计最快 2026 年到货。
由于 High NA EUV 光刻机价格是当前 EUV 光刻机的两倍，这也意味着设备成本将大幅增加。
而明年即将量产的 2nm 依然可以依赖于现有的 EUV 光刻机来完成，并且成本并不会大幅增加，这也是台积电、三星不急于导入 High NA EUV 光刻机的关键。
去年 12 月，ASML 官方社交媒体账号发布了一张现场照片。图可以看到，光刻机的一部分被放在一个保护箱中。箱身绑着一圈红丝带，正准备从其位于荷兰埃因霍温的总部发货。
" 耗时十年的开创性科学和系统工程值得鞠一躬！我们很高兴也很自豪能将我们的第一台高数值孔径的极紫外光刻机交付给 Intel。"ASML 公司说道。
公开资料显示，NA 数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。
一般来说，金属间距缩小到 30nm 以下之后，也就是对应的工艺节点超越 5nm，低数值孔径光刻机的分辨率就不够了，只能使用 EUV 双重曝光或曝光成形 ( pattern shaping ) 技术来辅助。
这样不但会大大增加成本，还会降低良品率。因此，更高数值孔径成为必需。
