中芯国际前不久宣布其使用的DUV光刻机通过自研的N+1技术实现了“准”7nm芯片制造。这也仅仅意味着中芯国际已经有能力制造，韩日芯片企业制定标准下的7nm芯片而已，这一技术标准实际上称之为20nm工艺则更为合适。而且请注意，这里拥有的是芯片制造能力，而不是光刻机的制造能力。而这个中芯国际并不是如名字一般的，中国芯片制造公司，而是中芯国际集成电路制造有限公司，实际上是一个外国法人独资的有限责任公司。
光刻机的研发制造作为芯片行业里的顶尖技术，即便是美俄也不能完全独立设计。整个世界的光刻机制造技术完全被荷兰的ASML公司所垄断，我国的光刻机研发制造技术的发展其实仍然有很长的路要走。光刻机的作用，简单来说就是以光作为刀片，在晶圆上刻画芯片图纸，是芯片生产加工中最为基础也最为关键的一环。虽然原理解释起来简单，但在实际研发制造中却是极度的复杂。为此，光刻机更是被成为是半导体制造业皇冠上的明珠。其制造涉及到了系统集成、精密光学、精密运动等多个领域的先进技术。而7nm实际上说的就是光刻机雕刻的精度，相当于一根头发的万分之一。而要想达到这样的雕刻精度，在雕刻过程中警员需要被快速移动，而这个移动不能产生任何误差，而这样的移动大概需要3000多步的公序，每一步都要有纳米级雕花的精细。为了实现这个精度，最先进的光科技上有整整十万个零件。
全世界能够生产高端光刻机的只有荷兰ASML一家。其最高端的精度能够达到5nm的EVU光刻机的售价达到了1.2亿美元。而且，即便是你有1.2亿美元，也还要受到美国的打压与限制。有钱也不让你买。光刻机不能自我生产研制，也就被其他国家卡住了脖子，从而限制了我国芯片工业的发展。中国买不到性能更为优秀的光刻机，目前的制作工艺也就停滞在了14nm。
正是因此，光刻机也就在我们国家战略的一部分，可即便如此，也仍然无法在技术上实现跨越式的突破。中国目前最为强大的光刻机生产商是伤害微电子设备公司，其做到的最精密的加工制程是90nm。大约相当于2004年使用的主流家用处理器的水平。而在当下我们主流的芯片生产技术已经来到了14nm到7nm这一级别。虽然这90nm制程的机器中我国实际掌握的技术并不多，但它的出现已经是我国芯片行业的一个里程碑了。这90nm的制程足够驱动我国基础的国防与工业，即便是国外要对我国的芯片行业加以限制，如今的我们也已经有了自己的反制措施。
目前光刻机主要的技术难点主要存在于浸没式曝光与多重曝光等，我国现有的这一款DUV光刻机理论上在突破这些技术关卡之后是有能力达到10nm甚至7nm制程的。目前我国也在加紧公关研发。相信在不久的将来，我们国家也能够生产出属于自己的世界顶级光刻机。
